分子涡轮高真空系统，CPU程序全自动控制，触膜屏用户界面，可镀多种膜材，也可镀相对较厚的膜。具有快速溅射易氧化和不氧化金属（贵金属）靶材的功能，可选各种溅射靶材，包括常用于场发射电镜的铱和铬。

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产品说明： 型号： AP-BM-400B电机功率： 165W有效容量： 30-400ml定时范围： 10秒至常开连续运转,可调可变速度： 6次/秒-9次/秒外观尺寸： 216*410*248mm主机质量： 18kg电源： 220V/50HZ实验室环境温度：2-30℃

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